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光刻機(jī)?性能指標(biāo)及分類—上海庫(kù)存芯片回收

光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，（庫(kù)存IC芯片回收）把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。

光刻機(jī)?性能指標(biāo)——庫(kù)存芯片回收公司小編來(lái)為大家娓娓道來(lái)：

1.

光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等。

2.

分辨率是對(duì)光刻工藝加工可以達(dá)到的至細(xì)線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。

3.

對(duì)準(zhǔn)精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度。

4.

曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫(xiě)式。

5.

曝光光源波長(zhǎng)分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源有汞燈，準(zhǔn)分子激光器等。

光刻機(jī)?分類：

A 手動(dòng)：指的是對(duì)準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式，是通過(guò)手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來(lái)完成對(duì)準(zhǔn)，對(duì)準(zhǔn)精度可想而知不高了；

B 半自動(dòng)：指的是對(duì)準(zhǔn)可以通過(guò)電動(dòng)軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧；

C 自動(dòng)：指的是從基板的上載分享，曝光時(shí)長(zhǎng)和循環(huán)都是通過(guò)程序控制，自動(dòng)光刻機(jī)主要是滿足工廠對(duì)于處理量的需要。

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