[服務(wù)項(xiàng)目]主題： 電子級(jí)硅烷氣應(yīng)用——蘇州離子束刻 ... 發(fā)布者： 離子束刻蝕?
10/18/2022
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電子級(jí)硅烷氣應(yīng)用——蘇州離子束刻蝕?
硅烷作為含硅薄膜和涂層的應(yīng)用已從傳統(tǒng)的微電子產(chǎn)業(yè)擴(kuò)展到鋼鐵、機(jī)械、化工和光學(xué)等各個(gè)領(lǐng)域。（深硅刻蝕）含硅涂層可使普通鋼的高溫耐氧化能力提高到10萬(wàn)倍以上,也可使其它金屬的高溫化學(xué)穩(wěn)定性大大改善，使內(nèi)燃機(jī)葉片的耐蝕性明顯增強(qiáng)，使各種材料和零件之間的粘結(jié)強(qiáng)度大幅度提高，使汽車發(fā)動(dòng)機(jī)零件的壽命延長(zhǎng)，也可改變玻璃的反射和透射性能，從而得到顯著的節(jié)能和裝飾效果。在浮法玻璃生產(chǎn)過(guò)程中用硅烷在玻璃表面涂敷一層反光層其粘附力極強(qiáng)在長(zhǎng)期陽(yáng)光照射下不退色, 透光率只有普通玻璃的1/3; 用氮化硅涂敷的大面積多晶硅電池（BSNSC) 已達(dá)到15.7%的高效率。用硅烷氣相沉積技術(shù)制造各種含硅薄膜在高技術(shù)中的應(yīng)用還在與日俱增。
電子級(jí)硅烷氣應(yīng)用——蘇州離子束刻蝕?公司小編來(lái)為大家娓娓道來(lái)：?
電子級(jí)硅烷氣在半導(dǎo)體行業(yè)中主要應(yīng)用于化學(xué)氣相沉積，化學(xué)氣相沉積(CVD)是通過(guò)氣體混合的化學(xué)反應(yīng),在硅片表面沉積一層固體膜的工藝。硅片表面及其鄰近的區(qū)域被加熱來(lái)向反應(yīng)系統(tǒng)提供所需的能量。化學(xué)氣相沉積膜中所有的物質(zhì)都源于外部氣源。原子或分子會(huì)沉積在硅片表面形成薄膜。電子級(jí)硅烷氣是化學(xué)氣相沉積中至常見的氣體之一。
電子級(jí)硅烷氣在顯示面板行業(yè)中主要應(yīng)用于TFT (薄膜晶體管) /LCD (液晶顯示器)的生產(chǎn), TFT/LCD的每個(gè)像素點(diǎn)都是由集成在自身上的TFT來(lái)控制，是有源 像素點(diǎn)。因此,其具有體積小、重量輕、低輻射、低耗電量、全彩化、速度快、對(duì)比度和亮度高、屏幕觀察角度大、分辨率高等優(yōu)點(diǎn)，目前主流的平面顯示設(shè)備。TFT/LCD的生產(chǎn)包括TFT陣列(包括薄膜、 光刻、刻蝕)、彩色濾光片 (包括黑矩陣膜、紅綠藍(lán)膜、透明導(dǎo)電層)、面板、模組等工序。在薄膜工序中，硅烷以及其他氣體在CVD制程(化學(xué)氣相沉積)的高頻交變電場(chǎng)作用下，解離反應(yīng)沉積在玻璃基板表面，可形成耐水氣和金屬離子腐蝕的絕緣層、電子通道層、歐姆接觸層、以及致密度高和絕緣性佳的閥級(jí)絕緣層。電子級(jí)硅烷氣在光伏行業(yè)中主要應(yīng)用于晶體硅太陽(yáng)能電池生產(chǎn)工藝和薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)工藝。商業(yè)化生產(chǎn)的晶體硅太陽(yáng)能電池通常采用多晶硅材料,生產(chǎn)過(guò)程中需要在受光面上通過(guò)化學(xué)氣相沉積制作減反射膜，在該步驟中需要用到硅烷氣。商業(yè)化生產(chǎn)的薄膜太陽(yáng)能電池分為非晶硅薄膜和非晶/微晶硅疊層薄膜，后者對(duì)太陽(yáng)光的吸收利用更充分，生產(chǎn)過(guò)程中均需要使用化學(xué)氣相沉積法制作薄膜，在該過(guò)程中需要用到硅烷氣。
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最后更新: 2022-10-18 15:23:37
