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化工高純水裝置中膜元件被污染表現及處理——蘇州超純水設備

水的純度通常是以水中所含雜質的相對含量來表示的。但當水的純度達一定水平后，水中的雜質總量已很少了，（蘇州反滲透純水設備）個別雜質的濃度更低，有些已不易檢出。在這種情況下，常用水的電導率（或電阻率）來表示水的純度。因為純水中H+和OH-離子的濃度都是10-7 mol/L，其電導率很低，幾乎不導電。而當水中含有某些雜質（如可溶性鹽）時，由于雜質離子能導電，使其電導率迅速上升。因此水的電導率是與其純度密切相關的。

高純水是化學純度極高的水，是指將水中的導電介質幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體和有機物均去除至很低程度的水，其中雜質的含量小于0.1 mg/L，電導率小于0.1 μS/cm， pH在6.8～7.0之間。人們制成的高純水的純度已經達到99.999999%，其中雜質含量低于0.01 mg/L [2] 。

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1.碳酸鹽垢：

膜表面濃差增加，標準滲透水流量下降，或是脫鹽率下降。

2.鐵/錳污染后的表現：

標準壓差升高，也可能引起透水量下降。通常錳和鐵會同時存在。

3.琉酸鹽垢：

若發生沉積，首先影響鹽濃度高的系統后面的膜元件，表現為二段壓差明顯升高。需要用專用清洗劑。

4.硅污染的表現：

4.1顆粒硅：污堵膜元件水流通道，導致系統壓差升高。

采用0.4二氯胺對于溶解嚴重污染的硅垢是有效的（去離子水設備）。

4.2膠硅：與顆粒硅相似。

4.3溶解硅：形成硅酸鹽析出，應采用二氯胺清洗。

5.懸浮物/有機物污堵表現：

透水量下降，一段壓差明顯升高。若給水SDI大于4或濁度大于1，有機物污染的可能性較大。

6.微生物污堵表現：

標準壓差升高或標準透水量下降。可采用非氧化性殺菌劑加堿進行清洗。

7.鐵細菌污堵表現：

標準壓差升高。可采用鈉鹽加堿進行清洗。

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